GB/T 18682-2002 物理气相沉积TiN薄膜技术条件

国家标准

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标准编号：GB/T 18682-2002

标准名称：物理气相沉积TiN薄膜技术条件

英文名称：Specifications of physical vapour deposition TiN films

发布日期：2002-03-10

实施日期：2002-08-01

归口单位：全国金属与非金属覆盖层标准化技术委员会

执行单位：全国金属与非金属覆盖层标准化技术委员会

主管部门：中国机械工业联合会

起草人

武汉材料保护研究所

本标准规定了物理气相沉积TiN薄膜的技术要求。本标准适用于物理气相沉积TiN薄膜，也适用于其他方法制备的TiN薄膜。本标准也适用于其他材料沉积层(TiC，TiCN，TiAIN等)。