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GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
标准编号：GB/T 20176-2006
标准名称：表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
英文名称：Surface chemical analysis-Secondary-ion mass spectrometry-Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
发布日期：2006-03-27
实施日期：2006-11-01
归口单位：全国微束分析标准化技术委员会
执行单位：全国微束分析标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
起草人
查良镇、陈旭、黄天斌、刘林、黄雁华、王光普
起草单位
清华大学电子工程系
标准范围
本标准详细说明了用标定的均匀掺杂物质确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×10的16次方atoms/cm3～1×10的20次方atoms/cm3。