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GB/T 28274-2012 硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则
标准编号：GB/T 28274-2012
标准名称：硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则
英文名称：Silicon-based MEMS fabrication technology - The basic regulation of layout design
发布日期：2012-05-11
实施日期：2012-12-01
归口单位：全国微机电技术标准化技术委员会
执行单位：全国微机电技术标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
起草人
张大成、王玮、姜森林、崔波、刘伟、杨芳
起草单位
北京大学、中国电子科技集团第十三研究所、西北工业大学、中机生产力促进中心、中国科学院上海微系统与信息技术研究所
标准范围
本标准规定了微结构加工时,光刻版图设计中图形设计应遵循的基本规则。本标准适用于采用接触式单/双面光刻、氧化扩散、化学气相淀积(CVD)、物理气相淀积(PVD)、离子注入、反应离子刻蚀(RIE)、氢氧化钾(KOH)腐蚀、硅-玻璃对准静电结合、砂轮划片等基本工艺方法。