GB/T 29844-2013 用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范

标准编号：GB/T 29844-2013

标准名称：用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范

英文名称：Specifications of metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy

发布日期：2013-11-12

实施日期：2014-04-15

归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

主管部门：国家标准化管理委员会

起草人

王雷、伍强、朱骏、陈宝钦

起草单位

上海华虹NEC电子有限公司

标准范围

本标准规定了用于先进集成电路光刻工艺综合评估的标准测试图形单元的形状、一般尺寸,以及推荐的布局和设计规则,这些标准测试图形包括可供光学显微镜和扫描电子显微镜用的各种图形单元。 本标准适用集成电路的工艺、常规掩模版、光致抗蚀剂和光刻机的特征和能力作出评价及交替移相掩模版相位测量,适用于g线、i线、KrF、ArF等波长的光刻设备及相应的光刻工艺。

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