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GB/T 30453-2013 硅材料原生缺陷图谱
标准编号：GB/T 30453-2013
标准名称：硅材料原生缺陷图谱
英文名称：Metallographs collection for original defects of crystalline silicon
发布日期：2013-12-31
实施日期：2014-10-01
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
起草人
孙燕、曹孜、谭卫东、黄笑容、翟富义、杨旭
起草单位
有研半导体材料股份有限公司、南京国盛电子有限公司、万向硅峰电子股份有限公司、陕西天宏硅材料有限责任公司、东方电气集团峨眉半导体材料有限公司、杭州海纳半导体有公司、四川新光硅业科技有限责任公司、中国有色金属工业标准化计量质量研究所
标准范围
本标准给出了硅多晶、硅单晶、硅片和硅外延片等硅材料的各种原生缺陷及其密切相关诱生缺陷的术语及其形貌特征图谱。分析了其产生的原因和消除方法。本标准适用于硅多晶、硅单晶、硅片和硅外延片等硅材料生产研究中各种缺陷的检验。硅器件、集成电路的生产研究也可参考本标准。