GB/T 32280-2015 硅片翘曲度测试 自动非接触扫描法

国家标准
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标准编号:GB/T 32280-2015

标准名称:硅片翘曲度测试 自动非接触扫描法

英文名称:Test method for warp of silicon wafers—Automated non-contact scanning method

发布日期:2015-12-10

实施日期:2017-01-01

归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

主管部门:国家标准化管理委员会

起草人

孙燕、何宇、张海英、楼春兰、徐新华、王飞尧、向兴龙

起草单位

有研半导体材料股份有限公司、杭州海纳半导体有限公司、浙江省硅材料质量检验中心、上海合晶硅材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、东莞市华源光电科技有限公司

标准范围

本标准规定了硅片翘曲度的非破坏性、自动非接触扫描测试方法。 本标准适用于直径不小于50mm,厚度不小于100μm的洁净、干燥的切割、研磨、腐蚀、抛光、刻蚀、外延或其他表面状态硅片的翘曲度测试。本方法可用于监控因热效应和(或)机械效应引起的硅片翘曲,也可用于砷化镓、蓝宝石等其他半导体晶片的翘曲度测试。

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