GB/T 34174-2017 表面化学分析 工作参考物质中离子注入产生的驻留面剂量定值的推荐程序

标准编号：GB/T 34174-2017

标准名称：表面化学分析 工作参考物质中离子注入产生的驻留面剂量定值的推荐程序

英文名称：Surface chemical analysis—Proposed procedure for certifying the retained areic dose in a working reference material produced by ion implantation

发布日期：2017-09-07

实施日期：2018-08-01

归口单位：全国微束分析标准化技术委员会

执行单位：全国微束分析标准化技术委员会

主管部门：国家标准化管理委员会

起草人

邱丽美、刘芬、赵志娟、章小余、徐鹏、刁玉霞

起草单位

中国科学院化学研究所、国家纳米科学中心、中国石化石油化工科学研究院

标准范围

对表面分析用的工作参考物质(WoRM)中离子注入原子序数大于硅的分析物元素，本标准规定了对其驻留面剂量进行定值的程序。WoRM为组成均匀的、标称直径不小于50mm的抛光(或类似磨面)基片(也称作基片)，并已离子注入一种基片上不存在的某种化学元素的同位素(也称作分析物)，其标称面剂量范围通常为10¹⁶atoms/cm²至10¹³atoms/cm²⁽即半导体技术中最感兴趣的范围)。WoRM晶片中离子注入分析物的面剂量，是通过与二级参考物质（SeRM）硅片中注入相同分析物的驻留面剂量比较而进行定值的。本标准提供了WoRM定值的概念和程序方面的信息。同时也有对参考物质要求、比较测量和实际定值的描述。离子注入、离子注入剂量术、波长色散X射线荧光光谱和无法得到SeRM时的无证替代物的补充材料见附录A到附录D。定值过程中产生的不确定度来源和数值见附录E。

标准文档截图