GB/T 36646-2018 制备氮化物半导体材料用氢化物气相外延设备

国家标准
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标准编号:GB/T 36646-2018

标准名称:制备氮化物半导体材料用氢化物气相外延设备

英文名称:Equipment for preparation of nitride semiconductor materials by hydride vapor phase epitaxy

发布日期:2018-09-17

实施日期:2019-01-01

归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

主管部门:国家标准化管理委员会

起草人

刘鹏、孙永健、王健辉、丁晓民、冯亚彬

起草单位

东莞市中镓半导体科技有限公司、中国电子技术标准化研究院

标准范围

本标准规定了制备氮化物半导体材料用氢化物气相外延设备(以下简称“HVPE设备”)的产品分类和标记、工作条件、要求、检测方法、检验规则、标志、包装、运输和储存。

本标准适用于制备直径50.8mm~152.4mm氮化物半导体材料的HVPE设备。

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