GB/T 37049-2018 电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

标准编号：GB/T 37049-2018

标准名称：电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

英文名称：Test method for the content of metal impurity in electronic grade polysilicon—Inductively coupled-plasma mass spectrometry method

发布日期：2018-12-28

实施日期：2019-04-01

归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

主管部门：国家标准化管理委员会

起草人

鲁文锋、刘晓霞、赵而敬、王桃霞、柳德发、张园园、刘强、秦榕、孙燕、赵玉、王忠慧、银波、邱艳梅

起草单位

江苏中能硅业科技发展有限公司、有研半导体材料有限公司、新特能源股份有限公司、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、宜昌南玻硅材料有限公司、洛阳中硅高科技有限公司

标准范围

本标准规定了电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)测定电子级多晶硅中痕量基体金属杂质含量的方法。

本标准适用于GB/T 12963中在基体金属杂质小于5ng/g范围内铁、铬、镍、铜、锌、钠含量的测定。

标准文档截图