GB/T 40110-2021 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染

标准编号：GB/T 40110-2021

标准名称：表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染

英文名称：Surface chemical analysis—Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

发布日期：2021-05-21

实施日期：2021-12-01

归口单位：全国微束分析标准化技术委员会

执行单位：全国微束分析标准化技术委员会表面化学分析分会

主管部门：国家标准化管理委员会

起草人

王海、张艾蕊、徐昕荣、范燕、王梅玲、任丹华

起草单位

中国计量科学研究院、华南理工大学

标准范围

本文件描述了测量经化学机械抛光或外延生长的硅片上表面元素污染的原子表面密度的TXRF方法。

本文件适用于以下情形：原子序数从16(S)到92(U)的元素；原子表面密度介于1X10¹⁰atoms/cm2～1X10¹⁴atoms/cm²之间的污染元素；采用VPD（气相分解）样品制备方法得到的原子表面密度介于5X10⁸atoms/cm²~5X10¹²atoms/cm²之间的污染元素（见3.4）。

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