T/CAS 304-2018 磁控溅射硅靶材及绑定靶材

标准编号：T/CAS 304-2018

标准名称：磁控溅射硅靶材及绑定靶材

英文名称：Magnetron sputtering silicon targets and bound targets

发布日期：2018-05-29

实施日期：2018-05-29

团体名称：中国标准化协会

起草人

张磊、姜大川、崔娜、李鹏廷、谭毅、顾正、石爽、康明生、朱辉、郄奕、张卫、姚玉杰、陈良杰、李云飞、王登科

起草单位

青岛蓝光晶科新材料有限公司、大工(青岛)新能源材料技术研究院有限公司、河北东同光电科技有限公司、大连理工大学

标准范围

本标准规定了磁控溅射硅靶材的分类及牌号、原料、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、供货状态及订货单（或合同）内容。
本标准适用于半导体等电子器件用的各种磁控溅射硅靶材。