T/GVS 002-2021 高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求

标准编号：T/GVS 002-2021

标准名称：高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求

英文名称：Generic specification for high precision magnetron sputtering coating plant

发布日期：2021-06-28

实施日期：2021-06-28

团体名称：广东省真空学会

起草人

李晓刚、聂鹏、叶俊文、吴标平、黎子辉、吴洽、冀鸣、石澎、黄志云、胡双丽、章艺锋、邓志雄

起草单位

中山凯旋真空科技股份有限公司、广东省中山市质量技术监督标准与编码所、华南理工大学、中山市博顿光电科技有限公司、中山火炬职业技术学院

标准范围

本文件规定了高精度磁控溅射镀膜设备的术语和定义、组成、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。

本文件适用于极限压力在10^-5Pa～10^-3Pa范围的高精度磁控溅射镀膜设备（以下简称“设备”）。

标准文档截图