- T/CNIA 0049.1-2020 冶炼副产品硫酸镍化学分析方法 第1部分:镍含量的测定 丁二酮肟重量法和Na2EDTA滴定法
- T/CNIA 0048-2020 绿色设计产品评价技术规范 铅锭
- T/CNIA 0047-2020 绿色设计产品评价技术规范 镍钴锰酸锂
- T/CNIA 0046-2020 绿色设计产品评价技术规范 镍钴锰氢氧化物
- T/CNIA 0042-2020 小粒度钼铁压球
- T/CNIA 0041-2020 真空凝壳炉用铜坩埚
- T/CNIA 0040-2020 钛及钛合金精密铸造用氧化锆
- T/CNIA 0039-2020 真空自耗电弧炉用铜坩埚
- T/CNIA 0038-2020 铝及铝合金阳极氧化及有机聚合物涂装线废水、废气、废渣控制与利用规范
- T/CNIA 0037-2020 铝表面纹理粉末涂料
T/CNIA 0062-2020 电子工业用高纯氢氟酸
标准编号:T/CNIA 0062-2020
标准名称:电子工业用高纯氢氟酸
英文名称:High purity hydrofluoric acid for electronic industry
发布日期:2020-05-27
实施日期:2020-08-01
团体名称:中国有色金属工业协会
起草人
杨晓青、刘刚、岳峥、薛心禄、秦榕、白圣玉、李军、张旸旸、孙燕、张全伟
起草单位
青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、苏州汉谱埃文材料科技有限公司、中巨芯科技有限公司、多氟多化工股份有限公司、有研半导体材料有限公司、苏州晶瑞化学股份有限公司
标准范围
本标准规定了电子工业用高纯氢氟酸的分级、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书、订货单(或合同)内容及安全。
本标准适用于电子工业用高纯氢氟酸(以下简称高纯氢氟酸)。该产品主要应用于电子级多晶硅、液晶显示器、集成电路和超大规模集成电路用硅片、芯片的清洗、蚀刻等。