GB/T 41652-2022 刻蚀机用硅电极及硅环

国家标准
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标准编号:GB/T 41652-2022

标准名称:刻蚀机用硅电极及硅环

英文名称:Silicon electrode and silicon ring for plasma etching machine

发布日期:2022-07-11

实施日期:2023-02-01

归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会

主管部门:国家标准化管理委员会

起草人

库黎明、孙燕、夏秋良、潘金平、闫志瑞、张果虎

起草单位

有研半导体硅材料股份公司、新美光(苏州)半导体科技有限公司、山东有研半导体材料有限公司、浙江海纳半导体有限公司

标准范围

本文件规定了刻蚀机用硅电极及硅环的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存和随行文件以及订货单内容。

本文件适用于p<100>拉硅单晶加工成的刻蚀机用直径200mm~450mm的硅电极及硅环。

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