T/ZJATA 0017-2023 制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备

标准编号：T/ZJATA 0017-2023

标准名称：制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备

英文名称：Equipment for peparation of carborundum semiconductor materials by chemical vapor deposition epitaxy

发布日期：2023-06-20

实施日期：2023-07-20

团体名称：浙江省分析测试协会

起草人

曹建伟、朱亮、傅林坚、张俊、周建灿、刘毅、沈文杰、金玲飞、刘丹丹、余婷、楼科利、朱盛霞

起草单位

浙江求是半导体设备有限公司、浙江晶盛机电股份有限公司、浙江求是创芯半导体设备有限公司、中国质量认证中心杭州分中心

标准范围

本文件规定了制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备（以下简称碳化硅外延设备）的产品分类、标记、组成及基本参数、工作条件、技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输与贮存、质量承诺。

本文件适用于采用化学气相沉积法(CVD)技术加工100 mm（4英寸）、150 mm（6英寸）和200 mm（8英寸）SiC 晶片的碳化硅外延设备。

标准文档截图