GB/T 43315-2023 硅片流动图形缺陷的检测腐蚀法

国家标准

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标准编号：GB/T 43315-2023

标准名称：硅片流动图形缺陷的检测腐蚀法

英文名称：Test method for flow pattern defects in silicon wafer—Etching technique

发布日期：2023-11-27

实施日期：2024-06-01

归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会

主管部门：国家标准化管理委员会

起草人

朱志高、陈俊宏、李素青、朱晓彤、潘金平、张海英、陈跃骅、黄景明、陈凤林、高海棠、由佰玲、吕莹、胡晓亮、方丽霞

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本文件规定了化学腐蚀后用金相显微镜检测硅片流动图形缺陷的方法。

本文件适用于电阻率大于1Ω·cm的硅片流动图形缺陷的检测。