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GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
标准编号：GB/T 24578-2009
标准名称：硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
英文名称：Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-ray fluorescence spectroscopy
发布日期：2009-10-30
实施日期：2010-06-01
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门：国家标准化管理委员会
起草人
孙燕、李俊峰、张静、翟富义、楼春兰、卢立延
起草单位
有研半导体材料股份有限公司、万向硅峰电子有限公司
标准范围
本标准规定了硅片表面金属沾污的全反射X 光荧光光谱测试方法,本方法使用单色X 光源全反射X 光荧光光谱的方法定量测定硅单晶抛光衬底表面层的元素面密度。 本标准适用于N 型和P型硅单晶抛光片、外延片等镜面抛光的硅片,尤其适用于清洗后硅片自然氧化层,或经化学方法生长的氧化层中沾污元素的面密度测定。