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T/CNIA 0061-2020 硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
标准编号：T/CNIA 0061-2020
标准名称：硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
英文名称：Determination of impurity content in tetrachlorosilane for siliconepitaxy-Inductively coupled plasma mass sepectrometry
发布日期：2020-05-27
实施日期：2020-08-01
团体名称：中国有色金属工业协会
起草人
严大洲、万烨、赵雄、楚东旭、刘凤华、蔡延国、邱艳梅、赵娟龙
起草单位
洛阳中硅高科技有限公司、亚洲硅业（青海）股份有限公司、新特能源股份有限公司、新疆协鑫新能源材料科技有限公司
标准范围
本标准规定了用电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）测定硅外延用四氯化硅中硼、钠、镁、铝、钾、钙、磷、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、镓、砷、铅元素含量的方法。
本标准适用于硅外延用四氯化硅中硼、钠、镁、铝、钾、钙、磷、钛、钒、铬、锰、铁、钻、镍、铜、锌、镓、砷、铅元素含量的测定。各元素测定下限为0.01ng/g。