GB/T 42789-2023 硅片表面光泽度的测试方法

国家标准
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标准编号:GB/T 42789-2023

标准名称:硅片表面光泽度的测试方法

英文名称:Test method for gloss of silicon wafer

发布日期:2023-08-06

实施日期:2024-03-01

归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会

主管部门:国家标准化管理委员会

起草人

梁兴勃、李琴、潘金平、李素青、边永智、庄智慧、韩云霄、徐志群、王可胜、张海英、林松青、张雪囡、由佰玲、沈辉辉、焦二强、付明全、詹玉峰

起草单位

浙江金瑞泓科技股份有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、山东有研半导体材料有限公司、麦斯克电子材料股份有限公司、浙江旭盛电子有限公司、金瑞泓科技(衢州)有限公司、浙江海纳半导体股份有限公司、天津中环领先材料技术有限公司、上海合晶硅材料股份有限公司、广东金湾高景太阳能科技有限公司、巢湖学院

标准范围

本文件描述了采用光反射法以20°、60°或85°几何条件测试硅片表面光泽度的方法。

本文件适用于硅腐蚀片、抛光片、外延片表面光泽度的测试,不适用于表面有图形的硅片的测试。

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