GB/T 30867-2014 碳化硅单晶片厚度和总厚度变化测试方法

国家标准
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标准编号:GB/T 30867-2014

标准名称:碳化硅单晶片厚度和总厚度变化测试方法

英文名称:Test method for measuring thickness and total thickness variation of monocrystalline silicon carbide wafers

发布日期:2014-07-24

实施日期:2015-02-01

归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

主管部门:国家标准化管理委员会

起草人

丁丽、周智慧、郝建民、蔺娴

起草单位

中国电子科技集团公司第四十六研究所、中国电子技术标准化研究院

标准范围

本标准规定了碳化硅单晶片厚度及总厚度变化(TTV)的测试方法,包括接触式和非接触式两种方式。 本标准适用于直径不小于30mm、厚度为0.13mm~1mm的碳化硅单晶片。

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