T/ICMTIA 4.1-2020 集成电路用氟化氩光刻胶单体第1部分：液体甲基丙烯酸酯类

中关村集成电路材料产业技术创新联盟

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标准编号：T/ICMTIA 4.1-2020

标准名称：集成电路用氟化氩光刻胶单体第1部分：液体甲基丙烯酸酯类

英文名称：ArF photoresist monomer for integrated circuits Part 1: Liquid methacrylate

发布日期：2020-12-31

实施日期：2021-03-01

团体名称：中关村集成电路材料产业技术创新联盟

起草人

傅志伟、邵严亮、贺宝元、薛春、杨影影

徐州博康信息化学品有限公司

本文件适用于由有机原料、溶剂、适宜阻聚剂等组分合成经精制后可适用于氟化氩树脂制备用的单体。