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T/CNIA 0020-2019 氯硅烷歧化反应用树脂催化剂中杂质含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法
标准编号：T/CNIA 0020-2019
标准名称：氯硅烷歧化反应用树脂催化剂中杂质含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法
英文名称：Determination of impurity content in resin catalysts for chlorosilane disproportionation reaction-Inductively coupled plasma atomic emission spectrometry
发布日期：2019-02-13
实施日期：2019-06-01
团体名称：中国有色金属工业协会
起草人
赵英、刘淑萍、董燕军、李东升、曹忠、李辉、宗凤云、蔡延国、曹俊英、侯海波、邱艳梅、曹岩德
起草单位
内蒙古神舟硅业有限责任公司、亚洲硅业（青海）有限公司、洛阳中硅高科技有限公司、内蒙古盾安光伏科技有限公司、新特新能材料检测中心有限公司
标准范围
本标准规定了氯硅烷歧化反应用树脂催化剂中杂质含量的测定方法。
本标准适用于氯硅烷歧化反应用树脂催化剂中硼、磷、铝、铬、铁、镍、铜、锌含量的测定。