T/CNIA 0064-2020 多晶硅行业用无尘擦拭布中杂质含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

标准编号：T/CNIA 0064-2020

标准名称：多晶硅行业用无尘擦拭布中杂质含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

英文名称：Determination of impurity content in wipes cloth with no dust forpolycrystalline silicon industry-Inductively coupledplasma atomic emission spectrometric method

发布日期：2020-05-27

实施日期：2020-08-01

团体名称：中国有色金属工业协会

起草人

王体虎、宗冰、蔡延国、魏东亮、田润朝、曹岩德、刘凤华、顾小祥、王桃霞、杨晓青、刘国霞、董燕军、刘红、陈英、王海礼、拜黎洁、张海燕、安军林

起草单位

亚洲硅业（青海）股份有限公司、洛阳中硅高科技有限公司、苏州鸿博斯特超净股份有限公司、江苏中能硅业科技发展有限公司、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、新特能源股份有限公司、内蒙古神舟硅业有限责任公司、国标（北京）检验认证有限公司

标准范围

本标准规定了多晶硅行业用无尘擦拭布中硼、磷、钠、镁、钾、钙、铬、铁、镍、铜、锌杂质含量的测定方法。

本标准适用于多晶硅行业用无尘擦拭布中硼、磷、钠、镁、钾、钙、铬、铁、镍、铜、锌杂质含量的测定，测定范围为0.10ug/g~10.00μg/g。

标准文档截图