立即下载标准文件- T/CIE 124-2021 工业机器人故障诊断与预测性维护 第4部分：健康状态评估
- T/CIE 096-2021 相变浸没式直接液冷数据中心设计规范
- T/CIE 125-2021 工业机器人故障诊断与预测性维护 第5部分：预测性维护
- T/CIE 126-2021 磁随机存储芯片测试方法
- T/CIE 114-2021 可移动文物三维数字化通用技术要求 古代文物
- T/CIE 123-2021 工业机器人故障诊断与预测性维护 第3部分：故障诊断
- T/CIE 061-2020 立体化智能安全卡口系统通用要求
- T/CIE 063-2020 室内可见光定位技术规范 第2部分:基于标志物识别的室内可见光定位系统
- T/CIE 062-2020 室内可见光定位技术规范 第1部分：基于低频调制光源的室内可见光定位系统
- T/CIE 091-2020 温水冷板式间接液冷数据中心设计规范
T/CIE 132-2022 磁控溅射设备薄膜精度测试方
标准编号：T/CIE 132-2022
标准名称：磁控溅射设备薄膜精度测试方
英文名称：Test methods for thin film thickness of magnetron sputtering equipment
发布日期：2022-08-10
实施日期：2022-08-10
团体名称：中国电子学会
起草人
赵巍胜、张博宇、程厚义、Sylvain EIMER、彭守仲、许涌、Pierre VALLOBRA、王子路、姚宇暄、许人友、葛继尧、杜寅昌、杜鸿基、李殿浦、杨玉杰、王戈飞、刘宏喜、郭玮、何帆
起草单位
北京航空航天大学、合肥致真精密设备有限公司、合肥致真智能装备有限公司、北京维开科技有限公司、北京北方华创微电子装备有限公司、致真存储(北京)科技有限公司、深圳亘存科技有限责任公司
标准范围
本文件规定了磁控溅射设备薄膜精度的测试方法，测试原理，被测件，测试环境和测试程序等。
本文件适用于磁控溅射设备沉积薄膜精度的验证。