T/ICMTIA 5.3-2020 集成电路用ArF光刻胶光刻检测方法

中关村集成电路材料产业技术创新联盟
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标准编号:T/ICMTIA 5.3-2020

标准名称:集成电路用ArF光刻胶光刻检测方法

英文名称:Lithography ArF Photo Resist of measurement for Intergraded circuits

发布日期:2020-12-31

实施日期:2021-03-01

团体名称:中关村集成电路材料产业技术创新联盟

起草人

许从应、毛智彪、马潇、顾大公、李珊珊

起草单位

宁波南大光电材料有限公司

标准范围

本文件适用于集成电路用ArF光刻胶。

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