T/ICMTIA 5.3-2020 集成电路用ArF光刻胶光刻检测方法
标准编号:T/ICMTIA 5.3-2020
标准名称:集成电路用ArF光刻胶光刻检测方法
英文名称:Lithography ArF Photo Resist of measurement for Intergraded circuits
发布日期:2020-12-31
实施日期:2021-03-01
团体名称:中关村集成电路材料产业技术创新联盟
起草人
许从应、毛智彪、马潇、顾大公、李珊珊
起草单位
宁波南大光电材料有限公司